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　　可千万别是什么冒充骗钱的呀！

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　　极紫外光光源这个东西，说起来是euv开发的三大难题之一。

　　有人这样形容光刻机：“这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。”

　　我们可以把光刻机看作一台高精度的底片曝光洗印机，它负责把“底片”，也就是设计好的芯片电路图曝光到“相片纸”上。这个“底片”有一个专业名称，叫做“掩膜”。而这里的“相片纸”，就是制造芯片的基底材料硅晶圆；曝光完成后得到的最终“照片”，就是芯片。

　　光刻机的基本结构最关键的部件只有三个：光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头，以及放置硅晶圆的曝光台。

　　正是因为光刻机的工作原理和基本结构并不复杂，所以，在芯片行业发展的早期，并没有专门的光刻机生产商。

　　芯片公司只需要到照相器材商店购买普通的相片洗印设备，然后自己加工改造一下就可以了。后来随着需求的不断提升，到现在智能手机的出现，对芯片提出了越来越高的要求。

　　经过这么多年的发展，博米公司虽然拥有着世界最高水准的芯片设计能力，可仍然缺乏芯片制造技术。

　　或者说，这一切的源头都卡在光刻机这里。

　　这就要说到芯片行业著名的“摩尔定律”。摩尔定律是指，每隔两年，同样大小的一块芯片上，晶体管数量会增加一倍。

　　换句话说，芯片的性能也增加一倍。但摩尔定律并不是客观的自然规律，而是芯片行业在激烈竞争中形成的经验规律：一旦芯片公司的研发速度落后于这个节奏，就将被无情淘汰。摩尔定律自从1965年提出后，统治了芯片行业长达半个世纪。

　　半个世纪以来，芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话，那么，这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地，用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度，也必须越来越高，否则，伱设计的“照片”再精美，印不出来也没有用。

　　比如，未来博米的智能手机需要用到低于10nm级别的芯片，生产这样的芯片，要用到的最先进的极紫外光刻机。

　　它的精度要达到什么样的程度呢？首先，如果把光想象成一把刻刀的话，那么光波越短，这把刻刀就越锋利。

　　1纳米等于百万分之一毫米，7纳米芯片意味着，它的每个元器件之间，只允许有几纳米的间隔距离，相当于一根头发丝粗细的万分之一。

　　要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光，它的波长只有纳米，是可见光波长的几十分之一。

　　但是，极紫外光源很难

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