位：“仔细说说，我记得这个月应该有不少项目完工。”
见状，温叶翻开文件夹，有条不紊的汇报起来。
“这款服务器CPU采用了CB12指令架构，包含最新的Ex64指令集，在‘未竟’架构的基础上借鉴了部分‘初’架构，合理的设计了8个核心，采用中芯40纳米制程流片而成；
仅流片了一次，便成功通过实际验证；
不过各方面性能并不是很亮眼，但根据相关测试，大CPU项目组认为这样一款CPU，可以提供足够丰富的实测数据……”
听温叶停顿下来，方年晃晃手：“都说完吧。”
温叶轻轻点头，继续往下说：“上周五，贵阳数据中心一期土建工程通过验收，已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”
“……”
“上周四神龙211流片通过，神龙511流片通过，性能不达标，在调整后将进行第二次流片……”
“……”
“晶圆测试线月初正式启动了试生产，光刻机的良率、稳定性等十分不理想，需要进行一定的调整；
据汇报，有望在下月进行65纳米制程试生产。”
似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句：“DUV浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻；
根据晶圆试验线的负责教授解释：
传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。
又根据一个瑞利公式：CD=K1×（λ/NA），降低波长λ，提高镜头的数值孔径NA，降低综合因素K1，即可不断演进光刻制程。
DUV激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长；
不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，再做到半周期65nm；
总之……
晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻，之后可能会漫长一点，但也不会是太久远的事情。”
一口气照本宣科的说完，温叶并未多停顿，继续解释。
“虽然梼杌实验室牵头的EUV光刻研发进展十分缓慢，但因为从欧美国家收购的各类技术等等；
对DUV光刻机的研发推动工作很有帮助。”
“……”
最后，温叶总结：“截止目前，就是这些项目有确切成果。”
“小谷负责的胜遇4G组网方案实际实验，还需要一点点时间，应该是在四月底能完成。”
听温叶完全说完后，方年稍作沉吟：“也就是说，梼杌一点都不重视的DUV光刻进展神速，去年最后一个季度投入了70亿，今年第一季度又投入十数亿的EUV进展龟速？”
“也可以这么理解。”温叶无奈回答，“国内无论
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